《阿斯麦CEO再提中国落后10-15年》

尽管中芯国际和华为近年来在半导体领域的进步令人印象深刻，但它们与台积电英特尔和三星等行业巨头相比，仍然落后10到15年，光刻设备制造商阿斯麦首席执行官Christophe Fouquet表示。即使中芯国际拥有最先进的DUV（深紫外）设备，也无法以具备成本效益的方式匹敌台积电的制程技术。这是因为中国公司无法获得先进的EUV（极紫外）光刻机。

“通过禁止出口EUV设备，中国将落后西方10到15年，”Christophe Fouquet在接受荷兰《新鹿特丹商业报》（NRC）采访时表示。 “这一点确实产生了影响。”

由于《瓦森纳协定》和美国的制裁，ASML从未向中国交付过其EUV设备。然而，ASML一直在向中国供应先进的DUV光刻设备，例如Twinscan NXT:2000i，这些设备能够生产5nm和7nm级别的芯片。

因此，中芯国际多年来一直利用其第一代和第二代7nm级制程技术为华为生产芯片。这在一定程度上帮助了中国的高科技巨头抵御美国政府的制裁。

在明确无法获得EUV设备后，华为及其合作伙伴开始探索自主研发极紫外光刻技术，旨在建立自己的光刻设备和生态系统。但即使如此，这一过程最快也需要10到15年。作为参考，从基础研究到完成商用设备，ASML及其合作伙伴花费了超过20年的时间来建立EUV生态系统。鉴于许多在1990年代早期和中期开发的技术已经公开，中国企业不必完全从零开始。但到中国的半导体行业开发出低数值孔径（Low-NA）EUV设备时，西方芯片行业可能已经进入高数值孔径（High-NA）甚至超高数值孔径（Hyper-NA）EUV光刻设备时代。

主要担忧并非中国企业将在15年后开发出自主的EUV光刻设备，而是它们可能在未来几年内复制ASML的主流DUV设备（例如Twinscan NXT:2000i）。美国政府正向ASML施压，要求其停止对中国的先进DUV系统进行维护和维修，以与现有的针对中国半导体行业的制裁保持一致。然而，荷兰政府尚未同意这一要求。ASML则希望保留对其在中国设备的控制，以防止敏感信息泄露。如果由中国企业接手设备维护，可能会导致其芯片工厂继续运营但相关技术泄露的风险。

目前，中国企业仍是ASML的主要客户之一，ASML通过向中芯国际、华虹和长江存储出售DUV光刻设备赚取了数十亿美元。但如果中国的光刻设备制造商成功研发出自己的DUV光刻系统（或直接复制ASML开发的技术），未来可能会减少对ASML的采购，并可能开始向中国以外的市场销售这些设备，与ASML形成直接竞争。尽管短期内中国企业不太可能制造出类似Twinscan NXT:2000i的设备，但复制技术稍落后的设备可能相对容易得多。